¿Por qué se utilizan ánodos auxiliares en el proceso de galvanoplastia?

¿Por qué se utilizan ánodos auxiliares en el proceso de galvanoplastia? Es difícil obtener un recubrimiento que tenga un espesor uniforme en la industria de la galvanoplastia. El problema de la falta de uniformidad en el espesor del recubrimiento es especialmente evidente cuando el objeto que se está recubriendo tiene áreas empotradas. Estas áreas empotradas reciben menos corriente y, por lo tanto, obtienen un menor depósito de metal de la solución de recubrimiento. Cada solución de recubrimiento tiene sus peculiaridades en el grado, la irregularidad de la superficie del objeto que se está recubriendo afectará la uniformidad del recubrimiento. Puede definirse en términos de poder de lanzamiento. La potencia de lanzamiento se refiere a la uniformidad del espesor de la placa que se puede esperar en un artículo con forma sobre cuya superficie variará la densidad de corriente. La distribución de la corriente de recubrimiento está influenciada "por la distancia relativa de cualquier parte dada de la superficie a los ánodos. Ningún baño de recubrimiento tiene un poder de lanzamiento lo suficientemente grande como para producir un espesor de placa uniforme en cátodos de forma compleja. Un ánodo insoluble que funcionará como un ánodo auxiliar libre de tendencias de desplazamiento de partículas en soluciones de niquelado y cromado. Los ánodos auxiliares del tipo conforme son deseables cuando se enchapan objetos que tienen superficies irregulares.   Como los ánodos auxiliares insolubles generalmente tienen la misma área presentada hacia la pieza de trabajo, no se requiere una densidad de corriente uniforme en toda la superficie del ánodo. Se ha producido un ánodo extremadamente efectivo al recubrir una sola área o cara del ánodo auxiliar de titanio, limitando así el área recubierta con platino y aumentando la corriente efectiva que se utiliza.